

Metal ede chimik grave (MACE) se yon dènyèman devlope anisotropik mouye metòd grave ki se kapab pwodwi rapò aspè segondè nanostructures semi-conducteurs soti nan fim metal modele.
Nan yon modèl byen aksepte ki dekri pwosesis MACE, laoksidanse pi pito yo dwe redwi nan sifas la nankatalis metal, ak twou (h +) yo sou fòm piki soti nan katalis metal Si oswa elektwon (e−) yo transfere soti nan Si katalis metal. Si anba katalis metal gen maksimòm lantwou konsantrasyon, Se poutèt saoksidasyonak yap divòse nan Si rive preferansyèlman anba katalis metal.
Efikasite enèji solè konvèsyon yo jwenn yo dwe ogmante lè SiNWs akrapò aspè segondèyo ap travay nan sifas la nan iradyasyon limyè slar.
1 Kondisyon andigman
Paramèt | Pwosesis | Refleksyon |
Front Side | ||
Kondisyon andigman | Metal Ede grave chimik | Ba |
Retounen Side | ||
Kondisyon andigman | Poli oswa relyèf | Segondè oswa ba |
2 Pwopriyete materyèl
Pwopriyete | Espesifikasyon | Metòd enspeksyon |
Metòd kwasans | solidifikasyon direksyon | XRD |
Kristalinite | polikristalin | Teknik etch preferansyèl(ASTM F47-88) |
Kalite konduktivite | P-kalite | Napson EC-80TPN P/N |
Dopant | Bor | - |
Oksijèn konsantrasyon [Oi] | ≦1E+17 nan / cm3 | FTIR (ASTM F121-83) |
Konsantrasyon kabòn [CS] | ≦1E+18 nan / cm3 | FTIR (ASTM F123-91) |
3 Pwopriyete elektrik
Pwopriyete | Espesifikasyon | Metòd enspeksyon |
Rezistivite | 0.5-2 Ωcm (Apre anneal) | Wafer enspeksyon sistèm lan |
MCLT (minè konpayi asirans pou tout lavi) | ≧2 μs | Sinton QSSPC |
4 Jewometri
Pwopriyete | Espesifikasyon | Metòd enspeksyon |
Jewometri | Kare oswa Rektang | Wafer enspeksyon sistèm lan |
Figi kwen bizote | Liy | Wafer enspeksyon sistèm lan |
Gwosè Wafer (Side longè * longè bò) | 156mm * 156mm 157mm * 186mm 166mm * 166mm | Wafer enspeksyon sistèm lan |
Ang ant kote adjasan yo | 90±3° | Wafer enspeksyon sistèm lan |
Baj popilè: nwa Silisyòm sifas p kalite polikristalin wafer solè ki gen ladan 166mm * 166mm, Lachin, Swèd, manifaktirè, faktori, te fè nan peyi Lachin











